Surf-Cal PSL球,预混合,SSIS尺寸校准
PSL球,聚苯乙烯乳胶,Sur-Cal粒度标准
SURF-CAL PSL球体通过在50ml瓶中提供预混合的PSL球体,简化了在工厂中准备校准晶片的工作。 颗粒尺寸对应于仪器制造商要求的校准点尺寸。 颗粒浓度为每毫升1 x 10 e10个颗粒。 SEMI制造商要求在校准扫描表面检查系统(也称为晶圆检查工具)时使用特定的颗粒尺寸。 SURF-CAL PSL球与仪器制造商合作,符合SEMI标准M52(3)和M53准则。 可用大小是国际半导体技术路线图ITRS(1)定义的关键尺寸节点。
通过在裸露的硅和图案晶片上沉积SURF-CAL,NIST可追踪的PSL(聚苯乙烯乳胶)球,您可以对KLA-Tencor,Hitachi,ADE,Topcon SSIS工具执行定期的尺寸校准检查,并将晶片检查扫描仪与扫描仪进行比较其他位置。 您还可以在制造过程的关键阶段评估SSIS的性能。
将所有产品以每毫升50 x3颗粒的浓度悬浮在1010 mL瓶中的去离子过滤水(去离子水)中。 这些PSL球已通过差分迁移率分析器(DMA)或其他尺寸排除技术确定了尺寸。
测量方法:
为确保NIST的可追溯性,通过透射电子或光学显微镜从NIST标准参考材料(2)转移了这些产品的认证直径。 使用NIST技术说明1297,1994年版“评估和表达NIST测量结果的不确定性指南”(4)计算不确定度。 列出的不确定性是扩展不确定性,覆盖因子为2(K = 2)。 使用粒径分布的大约±XNUMXs范围计算峰直径。 大小分布计算为整个峰的标准偏差(SDS)。 变异系数(CV)是一种标准偏差,表示为峰直径的百分比。 FWHM(半峰全宽)分布计算为峰高一半处的分布,以峰直径的百分比表示。
1.“国家半导体技术路线图”,半导体工业协会(1999年)
2. SD Duke和EB Layendecker,“通过电子显微镜对亚微米球形颗粒尺寸进行校准的内标方法”,精细颗粒学会(1988)
3。 SEMI M52 —用于指定X晶片130 nm技术的硅晶片表面检查系统的指南。
4. Barry N. Taylor和Chris E. Kuyatt,“评估和表达NIST测量结果不确定性的准则”。 NIST技术说明1297,1994年版,1994年XNUMX月。
颗粒成分 | 聚苯乙烯乳胶,PSL球 |
浓度 | 3 x 1010 每毫升颗粒 |
粒子密度 | 1.05 g /cm³ |
折射率 | 1.59 @ 589nm(25°C) |
填充量 | 50毫升 |
内容 | 去离子过滤水中的聚苯乙烯微球 |
到期日 | ≤12个月 |
PSL球,SURF-CAL粒度标准 | ||||
产品零件号 | 认证峰值直径 | 标准偏差 | CV和FWHM | 每毫升颗粒 |
AP PD-047B | 47纳米 | 4纳米 | 7.5%,17.4% | 1 x 10 e10 |
AP PD-064B | 64纳米 | 3纳米 | 5.4%,10.9% | 1 x 10 e10 |
AP PD-070B | 72纳米 | 5纳米 | 7.2%,16.2% | 1 x 10 e10 |
AP PD-080B | 80纳米 | 6纳米 | 7.0%,12.8% | 1 x 10 e10 |
AP PD-083B | 83纳米 | 4纳米 | 4.2%。 9.6% | 1 x 10 e10 |
AP PD-090B | 89纳米 | 5纳米 | 5.7%,9.6% | 1 x 10 e10 |
AP PD-092B | 92纳米 | 4纳米 | 4.6%,9.1% | 1 x 10 e10 |
AP PD-100B | 100纳米 | 3纳米 | 2.6%,5.2% | 1 x 10 e10 |
AP PD-110B | 114纳米 | 4纳米 | 3.3%,6.3% | 1 x 10 e10 |
AP PD-125B | 126纳米 | 3纳米 | 2.4%,4.8% | 1 x 10 e10 |
AP PD-155B | 155纳米 | 3纳米 | 1.6%,3.7% | 1 x 10 e10 |
AP PD-180B | 184纳米 | 4纳米 | 2.2%,3.9% | 1 x 10 e10 |
AP PD-200B | 202纳米 | 4纳米 | 1.8%,4.0% | 1 x 10 e10 |
AP PD-204B | 204纳米 | 4纳米 | 1.8%,3.7% | 1 x 10 e10 |
AP PD-215B | 220纳米 | 3纳米 | 1.6%,3.3% | 1 x 10 e10 |
AP PD-305B | 304纳米 | 4纳米 | 1.4%,3.4% | 1 x 10 e10 |
AP PD-365B | 360纳米 | 5纳米 | 1.3%,2.8% | 1 x 10 e10 |
AP PD-500B | 498纳米 | 10纳米 | 2.0%,5.0% | 1 x 10 e10 |
AP PD-800B | 809纳米 | 6纳米 | 0.8%,1.8% | 1 x 10 e10 |
AP PD-802B | 802纳米 | 9纳米 | 1.1%,2.4% | 1 x 10 e10 |
AP PD-1100B | 1.112μm | 11纳米 | 1.0%,2.5% | 1 x 10 e10 |